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RIE反應離子刻蝕機（清設比選20240232號）成交結果公告

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更新時間:

2024年03月11日

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項目名稱項目編號公告開始日期公告截止日期采購單位付款方式聯系人聯系電話簽約時間要求到貨時間要求預算總價發票要求含稅要求送貨要求安裝要求收貨地址供應商資質要求公告說明

RIE反應離子刻蝕機	****
2024-03-07 08:38:22	2024-03-10 09:00:00
****	合同簽訂后50%，驗收合格后50%

	簽訂合同后3個工作日內
￥ 160000.00




市**
符合《政府采購法》第二十二條規定的供應商基本條件

采購清單index

采購商品采購數量計量單位所屬分類

RIE反應離子刻蝕機

臺

品牌型號預算單價技術參數及配置要求參考鏈接售后服務

￥ 160000.00

適用范圍：采用RIE反應離子誘導激發方式，實現對材料表面各向異性的微結構刻蝕。適用于所有的基材及復雜的幾何構形進行RIE反應離子刻蝕。具體包括：介電材料（SiO2、SiNx等）、硅基材料（Si，a-Si，poly Si）、III-V材料（GaAs、InP、GaN等）、濺射金屬（Au、Pt、Ti、Ta、W等）、類金剛石（DLC）技術參數： 1、PLC工控機控制，7寸彩色觸摸屏互動操作界面，圖形化操作界面顯示，自動監測工藝參數狀態，0~99配方程序，可存儲、輸出、追溯工藝數據，機器運行、停止提示。 2、手動、自動兩種工作模式。 3、全真空管路系統采用316不銹鋼材質。 4、采用防腐數字流量計控制，標配雙路氣體輸送系統，可選多氣路氣體輸送系統，可輸入氧氣、氬氣、氮氣、四氟化碳、氫氣或混合氣等氣體。 5、具備HEPA高效過濾氣體返填吹掃功能。 6、人體功能學的60度傾角操作界面設計，操作方便，界面**。 7、采用頂置真空倉，上開蓋設計，下壓式鉸鏈開關方式。上置式360度水平取放樣品設計。 8、最大處理直徑200mm晶元硅片。 9、安全保護，倉門打開，自動關閉電源。 10、艙體內尺寸：H38xΦ260mm。 11、艙體容積：2L，最大處理尺寸：≤154mm 12、射頻電源：13.56MHz，射頻功率10-300W**可調。 13、電極：不銹鋼氣浴RIE電極，Φ200mm。 14、自動匹配器。 15、RIE刻蝕方式。 16、氣體控制：質量流量計（MFC）（標配雙路，可選多路）流量范圍0-500SCCM（可調）。

12個月

成交信息

成交供應商：

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